Próżniowy system do nanoszenia cienkich warstw metodą rozpylania magnetronowego (ang. sputtering) składający się z dwóch magnetronów: pierwszy z nich jest podłączony do zasilacza DC 1kW, natomiast drugi jest podłączony do zasilacza RF 300W. Urządzenie pozwalające na osadzanie na podłożach półprzewodnikowych i dielektrycznych różnorodnych materiałów, głównie metali (np. Ti, Ni, Cr, Al, itp.), ale również dielektryków (np. SiO2, Si3N4). System NANO36 zawiera komorę próżniową, automatyczny system pomp, system próżniomierzy, możliwość podłączenia gazów oraz monitor grubości nanoszonej warstwy.
